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    【推荐】碳化硅晶圆清洗的新方法-电子工程专辑

    2023年9月25日  本文介绍了一种新的碳化硅(SiC)晶圆清洗方法。 我们发现在RCA清洗中,氟化氢(HF)溶液浸渍处理会破坏SiC,因此设计了一种新的不使用HF的清洗方法, 【推荐】碳化硅晶圆清洗的新方法-电子工程专辑2023年9月25日  本文介绍了一种新的碳化硅(SiC)晶圆清洗方法。 我们发现在RCA清洗中,氟化氢(HF)溶液浸渍处理会破坏SiC,因此设计了一种新的不使用HF的清洗方法,

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    碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库

    碳化硅晶片清洗的一般步骤如下: 1. 预处理:将待清洗的碳化硅晶片放入预处理槽中,使用溶剂进行浸泡清洗,去除表面的有机污染物。 2. 酸洗:将经过预处理的碳化硅晶片放入 碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库碳化硅晶片清洗的一般步骤如下: 1. 预处理:将待清洗的碳化硅晶片放入预处理槽中,使用溶剂进行浸泡清洗,去除表面的有机污染物。 2. 酸洗:将经过预处理的碳化硅晶片放入

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    碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库

    对清洗后的碳化硅晶片进行二次清洗,可以使用超声波清洗设备或喷淋清洗设备。 二次清洗的目的是进一步去除表面的微小杂质和残留物,提高晶片的纯净度。 碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库对清洗后的碳化硅晶片进行二次清洗,可以使用超声波清洗设备或喷淋清洗设备。 二次清洗的目的是进一步去除表面的微小杂质和残留物,提高晶片的纯净度。

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    碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库

    常用的预处理方法包括超声波清洗、酸洗和碱洗等。超声波清洗可以利用超声波的高频振动作用,使污染物从晶片表面脱落。酸洗可以溶解晶片表面的有机物和无机杂质,而碱洗则可 碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库常用的预处理方法包括超声波清洗、酸洗和碱洗等。超声波清洗可以利用超声波的高频振动作用,使污染物从晶片表面脱落。酸洗可以溶解晶片表面的有机物和无机杂质,而碱洗则可

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    碳化硅晶圆清洗的方法 - 合明科技

    2023年10月25日  碳化硅晶圆清洗的方法. 碳化硅具有宽禁带的特点,因此碳化硅有望成为下一代功率器件的优秀材料,RCA清洗通常用于Si晶圆制造,但这类清洗针对Si晶圆进行的 碳化硅晶圆清洗的方法 - 合明科技2023年10月25日  碳化硅晶圆清洗的方法. 碳化硅具有宽禁带的特点,因此碳化硅有望成为下一代功率器件的优秀材料,RCA清洗通常用于Si晶圆制造,但这类清洗针对Si晶圆进行的

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    一种碳化硅晶片的清洗方法 - 百度学术

    本申请公开了一种碳化硅晶片的清洗方法,属于半导体材料制备领域.该碳化硅晶片的清洗方法包括等离子清洗和湿法清洗步骤.该碳化硅晶片的清洗方法使得碳化硅晶片表面的杂质清 一种碳化硅晶片的清洗方法 - 百度学术本申请公开了一种碳化硅晶片的清洗方法,属于半导体材料制备领域.该碳化硅晶片的清洗方法包括等离子清洗和湿法清洗步骤.该碳化硅晶片的清洗方法使得碳化硅晶片表面的杂质清

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    碳化硅(SiC)器件制造工艺中的清洗方法 - 电子发烧友网

    2022年4月7日  150毫米碳化硅晶片上的RCA清洗被证明能有效去除汞以及镍、铁和其他金属,清洗后的测量结果低于浓缩RCA序列的检测限,低于稀释RCA序列的检测限,但仍可 碳化硅(SiC)器件制造工艺中的清洗方法 - 电子发烧友网2022年4月7日  150毫米碳化硅晶片上的RCA清洗被证明能有效去除汞以及镍、铁和其他金属,清洗后的测量结果低于浓缩RCA序列的检测限,低于稀释RCA序列的检测限,但仍可

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    一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂 ...

    2022年5月30日  一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂. 本发明涉及碳化硅加工技术领域,公开了一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂,通过使用具 一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂 ...2022年5月30日  一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂. 本发明涉及碳化硅加工技术领域,公开了一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂,通过使用具

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    碳化硅晶片生产流程及清洗技术金蒙新材料百科山

    2022年3月17日  碳化硅晶片经过清洗可以有效去除表面沾污和杂质,同时保证不引入新的杂质,从而使最终的碳化硅晶片产品满足半导体下游客户的要求。 传统的硅衬底材料使用RCA标准清洗方法来去除材料表面的污染, 碳化硅晶片生产流程及清洗技术金蒙新材料百科山 2022年3月17日  碳化硅晶片经过清洗可以有效去除表面沾污和杂质,同时保证不引入新的杂质,从而使最终的碳化硅晶片产品满足半导体下游客户的要求。 传统的硅衬底材料使用RCA标准清洗方法来去除材料表面的污染,

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    一种碳化硅晶片专用切后清洗装置及清洗方法与流程

    2022年3月30日  1.本发明涉及一种碳化硅晶片专用切后清洗装置及清洗方法,更具体地说,本发明涉及一种便于碳化硅产线上多线切割后晶片清洗的全自动清洗装置及清洗方法。 一种碳化硅晶片专用切后清洗装置及清洗方法与流程2022年3月30日  1.本发明涉及一种碳化硅晶片专用切后清洗装置及清洗方法,更具体地说,本发明涉及一种便于碳化硅产线上多线切割后晶片清洗的全自动清洗装置及清洗方法。

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    碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库

    清洗后的碳化硅晶片可以更好地应用于半导体制造和其他相关领域,发挥其优良的性能和特性。 2. 准备清洗溶液:根据具体的清洗需求选择合适的清洗溶液,常用的有酸性清洗溶液、碱性清洗溶液和有机溶剂等。 3. 准备清洗工具:包括刷子、棉签、滤纸等。 4. 碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库清洗后的碳化硅晶片可以更好地应用于半导体制造和其他相关领域,发挥其优良的性能和特性。 2. 准备清洗溶液:根据具体的清洗需求选择合适的清洗溶液,常用的有酸性清洗溶液、碱性清洗溶液和有机溶剂等。 3. 准备清洗工具:包括刷子、棉签、滤纸等。 4.

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    碳化硅块体的破碎工艺-厂家/价格-采石场设备网

    我国碳化硅破碎加工生产线 --河南矿山机器有限公司 工艺生产线设计定型之前,在破碎机生产方的协助下,现场投入了共80吨高质密碳化硅块料进行了重负荷、高强度的工业性试验,鉴定该机械设备的各种性能、生产量、耐磨体... 碳化硅块体的破碎工艺-厂家/价格-采石场设备网我国碳化硅破碎加工生产线 --河南矿山机器有限公司 工艺生产线设计定型之前,在破碎机生产方的协助下,现场投入了共80吨高质密碳化硅块料进行了重负荷、高强度的工业性试验,鉴定该机械设备的各种性能、生产量、耐磨体...

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    绿碳化硅破碎机械工作原理-厂家/价格-采石场设备网

    【破碎整形后的碳化硅怎样清洗,无水洗沙机】- 网 2017年1月12日-工作原理: 破碎整形后的碳化硅怎样清洗工作时物料由进料斗进入制砂机,经分料器...加工绿碳化硅设备展示@重晶石破碎筛分工艺目前技术先进的破碎整形后的碳化硅怎样清洗 ... 绿碳化硅破碎机械工作原理-厂家/价格-采石场设备网【破碎整形后的碳化硅怎样清洗,无水洗沙机】- 网 2017年1月12日-工作原理: 破碎整形后的碳化硅怎样清洗工作时物料由进料斗进入制砂机,经分料器...加工绿碳化硅设备展示@重晶石破碎筛分工艺目前技术先进的破碎整形后的碳化硅怎样清洗 ...

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    【精品文章】浅谈碳化硅粉体整形工艺_百度文库

    整个过程通过调整各个工艺参数,一方面保证粉体颗 粒不破碎,另一方面通过研磨慢慢把碳化硅粉体颗粒的不规则部分磨掉。. 2、氧化腐蚀结合研磨工艺 这种工艺原理:先通过高温把碳化硅颗粒的不规则的部分先进行氧化处 理,然后再用机械研磨技术采用适当 ... 【精品文章】浅谈碳化硅粉体整形工艺_百度文库整个过程通过调整各个工艺参数,一方面保证粉体颗 粒不破碎,另一方面通过研磨慢慢把碳化硅粉体颗粒的不规则部分磨掉。. 2、氧化腐蚀结合研磨工艺 这种工艺原理:先通过高温把碳化硅颗粒的不规则的部分先进行氧化处 理,然后再用机械研磨技术采用适当 ...

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    浅谈碳化硅粉体整形工艺 _粉体资讯_粉体圈 - 360powder

    2016年9月22日  整个过程通过调整各个工艺参数,一方面保证粉体颗粒不破碎,另一方面通过研磨慢慢把碳化硅粉体颗粒的不规则部分磨掉。. 2、氧化腐蚀结合研磨工艺. 这种工艺原理:先通过高温把碳化硅颗粒的不规则的部分先进行氧化处理,然后再用机械研磨技术采用适当 浅谈碳化硅粉体整形工艺 _粉体资讯_粉体圈 - 360powder2016年9月22日  整个过程通过调整各个工艺参数,一方面保证粉体颗粒不破碎,另一方面通过研磨慢慢把碳化硅粉体颗粒的不规则部分磨掉。. 2、氧化腐蚀结合研磨工艺. 这种工艺原理:先通过高温把碳化硅颗粒的不规则的部分先进行氧化处理,然后再用机械研磨技术采用适当

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    一种碳化硅晶片的清洗方法与流程 - X技术网

    2019年4月5日  3)湿法清洗:使用清洗剂包括浓硫酸、硝酸、盐酸、氢氟酸、磷酸、双氧水、去离子水中的至少一种,清洗温度为20~150℃;清洗过程中可配合超声或兆声波清洗。. 4)将清洗干净的碳化硅晶片进行表面杂质的测试,合格的产品进行封装。. 按照上述方法对碳 一种碳化硅晶片的清洗方法与流程 - X技术网2019年4月5日  3)湿法清洗:使用清洗剂包括浓硫酸、硝酸、盐酸、氢氟酸、磷酸、双氧水、去离子水中的至少一种,清洗温度为20~150℃;清洗过程中可配合超声或兆声波清洗。. 4)将清洗干净的碳化硅晶片进行表面杂质的测试,合格的产品进行封装。. 按照上述方法对碳

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    碳化硅粉末的生产和应用

    碳化硅的合成: 选择石油焦、无烟煤、木炭等碳原料和石英砂、硅石等硅原料,通过高温烧结得到碳化硅。 碳化硅的具体生产工艺包括 加工和粉碎: 合成后的碳化硅通常呈块状。 必须使用破碎机将其破碎成不超过 5 毫米的颗粒。然后,使用成型机将其成型为不超过 2 毫米的颗粒,其中椭圆形颗粒 ... 碳化硅粉末的生产和应用碳化硅的合成: 选择石油焦、无烟煤、木炭等碳原料和石英砂、硅石等硅原料,通过高温烧结得到碳化硅。 碳化硅的具体生产工艺包括 加工和粉碎: 合成后的碳化硅通常呈块状。 必须使用破碎机将其破碎成不超过 5 毫米的颗粒。然后,使用成型机将其成型为不超过 2 毫米的颗粒,其中椭圆形颗粒 ...

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    金刚砂如何破碎-厂家/价格-采石场设备网

    超细金刚砂粉超细磨-破碎设备价格-矿山设备生产厂家 碳化硼氧化铝氧化锆石榴石锆英砂金刚石2非金属矿石英石墨高岭土碳酸钙云母重搅拌磨雷蒙磨高纯碳化硅超细粉球磨机超细研磨机破碎机制砂机及生产线陶瓷生产加工机械硅... 金刚砂如何破碎-厂家/价格-采石场设备网超细金刚砂粉超细磨-破碎设备价格-矿山设备生产厂家 碳化硼氧化铝氧化锆石榴石锆英砂金刚石2非金属矿石英石墨高岭土碳酸钙云母重搅拌磨雷蒙磨高纯碳化硅超细粉球磨机超细研磨机破碎机制砂机及生产线陶瓷生产加工机械硅...

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    碳化硅破碎机械价格

    如何保养碳化硅破碎机百度文库评分页年月日如何保养碳化硅破碎机说到“颚破”,人们通常会想到什么呢事实上这是一种工业生产上经常会被用到的机器,它的全称是颚式破碎机,是一种利用咬合力来进碳化硅砂碳化硅砂价格优质碳化硅砂批发采购产地货源全球现货供应焊接壳立轴式破碎机板锤式制砂 ... 碳化硅破碎机械价格如何保养碳化硅破碎机百度文库评分页年月日如何保养碳化硅破碎机说到“颚破”,人们通常会想到什么呢事实上这是一种工业生产上经常会被用到的机器,它的全称是颚式破碎机,是一种利用咬合力来进碳化硅砂碳化硅砂价格优质碳化硅砂批发采购产地货源全球现货供应焊接壳立轴式破碎机板锤式制砂 ...

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    碳化硅回收工艺_百度文库

    碳化硅回收工艺. 湿法回收工艺:将废弃的碳化硅制品破碎、分级,经过酸洗、碱洗、水洗等多道工序处理后,再进行烘干、筛分、磁选、离心等过程,最终得到可重复利用的碳化硅微粉。. 热处理回收工艺:将废弃的碳化硅制品置于高温下,经过氧化、还原等 ... 碳化硅回收工艺_百度文库碳化硅回收工艺. 湿法回收工艺:将废弃的碳化硅制品破碎、分级,经过酸洗、碱洗、水洗等多道工序处理后,再进行烘干、筛分、磁选、离心等过程,最终得到可重复利用的碳化硅微粉。. 热处理回收工艺:将废弃的碳化硅制品置于高温下,经过氧化、还原等 ...

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    碳化硅、金刚石等磨料微粉通常如何进行颗粒整形? - 技术 ...

    2023年1月6日  因此通过减小破碎强度,增加介质与粉末之间的摩擦作用,利用研磨方式来达到整形的目的。. 球磨法主要探究球磨时间、球料质量比、转速等球磨参数对碳化硅粉体粒径大小、球形度,堆积密度等的影响。. 通常碳化硅脆性比较大,球磨中只会发生裂碎而不会 碳化硅、金刚石等磨料微粉通常如何进行颗粒整形? - 技术 ...2023年1月6日  因此通过减小破碎强度,增加介质与粉末之间的摩擦作用,利用研磨方式来达到整形的目的。. 球磨法主要探究球磨时间、球料质量比、转速等球磨参数对碳化硅粉体粒径大小、球形度,堆积密度等的影响。. 通常碳化硅脆性比较大,球磨中只会发生裂碎而不会

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    碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库

    碳化硅晶片清洗工艺. 1. 预清洗. 将待清洗的碳化硅晶片放入预清洗槽中,使用去离子水进行浸泡清洗。. 预清洗的目的是去除表面附着的杂质和油污,以减少后续清洗工艺的负担。. 2. 酸洗. 在酸洗槽中加入稀硝酸或稀盐酸溶液,将碳化硅晶片浸泡一段时间 ... 碳化硅晶片清洗工艺 - 百度文库碳化硅晶片清洗工艺. 1. 预清洗. 将待清洗的碳化硅晶片放入预清洗槽中,使用去离子水进行浸泡清洗。. 预清洗的目的是去除表面附着的杂质和油污,以减少后续清洗工艺的负担。. 2. 酸洗. 在酸洗槽中加入稀硝酸或稀盐酸溶液,将碳化硅晶片浸泡一段时间 ...

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    一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂 ...

    2022年5月30日  摘要:. 本发明涉及碳化硅加工技术领域,公开了一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂,通过使用具有酸性环境的双氧水柠檬酸水溶液对基于Al2O3KMnO4体系抛光后的碳化硅晶片进行清洗,再经过后续清洗工艺,得到抛光清洗后的碳化硅晶片的技术方案 ... 一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂 ...2022年5月30日  摘要:. 本发明涉及碳化硅加工技术领域,公开了一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂,通过使用具有酸性环境的双氧水柠檬酸水溶液对基于Al2O3KMnO4体系抛光后的碳化硅晶片进行清洗,再经过后续清洗工艺,得到抛光清洗后的碳化硅晶片的技术方案 ...

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    耐火原材料——碳化硅的合成工艺 - 百家号

    2020年7月4日  碳化硅的合成工艺. 1.原料. 合成碳化硅所用的原料主要是以SiO2为主成分的脉石英和石英砂,以及以C为主成分的石油焦,低档次的碳化硅也有以灰分低的无烟煤为原料的。. 辅助原料有木屑和食盐。. 脉石英是一种火成岩,由酸性岩浆分异后发育于其它岩石的 耐火原材料——碳化硅的合成工艺 - 百家号2020年7月4日  碳化硅的合成工艺. 1.原料. 合成碳化硅所用的原料主要是以SiO2为主成分的脉石英和石英砂,以及以C为主成分的石油焦,低档次的碳化硅也有以灰分低的无烟煤为原料的。. 辅助原料有木屑和食盐。. 脉石英是一种火成岩,由酸性岩浆分异后发育于其它岩石的

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    重晶石破碎筛分工艺-厂家/价格-采石场设备网

    破碎后的物料粒度不均匀,无法直接进行重力选矿,通常需要经过圆振动筛筛分,将破碎 ... 2017年4月17日-残积型重晶石矿一般用重选方法进行选别,即经洗矿、破碎、筛分后用跳汰或其他重选方法选出重晶石精矿。 重晶石破碎筛分工艺-厂家/价格-采石场设备网破碎后的物料粒度不均匀,无法直接进行重力选矿,通常需要经过圆振动筛筛分,将破碎 ... 2017年4月17日-残积型重晶石矿一般用重选方法进行选别,即经洗矿、破碎、筛分后用跳汰或其他重选方法选出重晶石精矿。

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    碳化硅粒度砂是怎么加工形成的?

    2015年4月28日  3、加式完成后经过酸碱洗提纯,去掉 碳化硅粒度砂 里面的三氧化二铁、游离碳等。 再进行烘干工序。 4、最后经过直线振动筛筛分出符合要求的产品,有磁性物要求的 碳化硅 粒度砂 产品,还要使用双辊磁选机去掉 碳化硅 粒度砂 中的磁性物(或者用酸碱洗再洗一遍达到纯度更好)。 碳化硅粒度砂是怎么加工形成的?2015年4月28日  3、加式完成后经过酸碱洗提纯,去掉 碳化硅粒度砂 里面的三氧化二铁、游离碳等。 再进行烘干工序。 4、最后经过直线振动筛筛分出符合要求的产品,有磁性物要求的 碳化硅 粒度砂 产品,还要使用双辊磁选机去掉 碳化硅 粒度砂 中的磁性物(或者用酸碱洗再洗一遍达到纯度更好)。

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    一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂与流程

    2022年6月29日  1.本发明涉及碳化硅加工技术领域,具体为一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂。背景技术: 2.传统化学机械抛光(cmp)的抛光液主要以碱性sio2抛光液为主,但是由于碳化硅的莫氏硬度高,化学惰性大,导致使用sio2抛光液的材料去除速率很低,从而极大的降低了cmp的抛光效率,增加 ... 一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂与流程2022年6月29日  1.本发明涉及碳化硅加工技术领域,具体为一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂。背景技术: 2.传统化学机械抛光(cmp)的抛光液主要以碱性sio2抛光液为主,但是由于碳化硅的莫氏硬度高,化学惰性大,导致使用sio2抛光液的材料去除速率很低,从而极大的降低了cmp的抛光效率,增加 ...

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    知乎专栏 - 随心写作,自由表达 - 知乎

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    一种碳化硅粉体颗粒的整形方法与流程_2 - X技术网

    2021年8月17日  一种碳化硅粉体颗粒的整形方法与流程. 1.一种碳化硅粉体颗粒的整形方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:. 步骤一、混合配比:将可溶性无机盐与碳化硅原粉混合后研磨,然后进行干燥,得到混合物;. 步骤二、高温熔融处理:将步骤一中得到的混合物 ... 一种碳化硅粉体颗粒的整形方法与流程_2 - X技术网2021年8月17日  一种碳化硅粉体颗粒的整形方法与流程. 1.一种碳化硅粉体颗粒的整形方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:. 步骤一、混合配比:将可溶性无机盐与碳化硅原粉混合后研磨,然后进行干燥,得到混合物;. 步骤二、高温熔融处理:将步骤一中得到的混合物 ...

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    碳化硅衬底晶片的清洗方法与流程 - X技术网

    2022年4月13日  89.步骤s1、将碳化硅衬底晶片放入cass中,隔片插 (每cass放13片晶片),随后将cass浸入乙醇中,在超声频率为20khz,循环滤芯为0.3μm的条件下进行第一超声清洗35s,然后将晶片取出置于快排冲洗槽中进行第一表面残余清洗 (排水时间为2s,冲洗时间为3min);. 90.步骤s2 ... 碳化硅衬底晶片的清洗方法与流程 - X技术网2022年4月13日  89.步骤s1、将碳化硅衬底晶片放入cass中,隔片插 (每cass放13片晶片),随后将cass浸入乙醇中,在超声频率为20khz,循环滤芯为0.3μm的条件下进行第一超声清洗35s,然后将晶片取出置于快排冲洗槽中进行第一表面残余清洗 (排水时间为2s,冲洗时间为3min);. 90.步骤s2 ...

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